中新網10月27日電 最高人民法院刑二庭副庭長裴顯鼎透露說，中國將在今年年底之前出臺司法解釋，對知識產權刑事犯罪案件中的部分量刑標準作出進一步的解釋，降低對此類犯罪行為追究刑事責任的量刑門檻，以更好地維護企業(yè)和個人的知識產權。
據現代金報消息，裴顯鼎是昨日在杭州舉辦的中英知識產權刑事執(zhí)法培訓班上作出上述表示的。
裴顯鼎透露說，近幾年來，中國的知識產權刑事案件雖然在絕對數上較少，但在所有刑事案件中的比例增幅較快，其中侵犯商標罪占此類案件總數的90%以上。大量的案件因為作案人手段高超、隱蔽性強，案值難查，根據現在的法律法規(guī)最終只能免于追究刑事責任。
據了解，這份即將出臺的司法解釋有十多項內容，分別對知識產權侵權案件的“情節(jié)”、“數額”、“一案數罪”等情況作了解釋，降低了起刑點。
裴顯鼎舉例說，原來案值要達到5萬元數額才構成刑事犯罪的，在新的司法解釋出臺后可能只要3萬元就行了，原來情節(jié)算輕的也可能被認為情節(jié)較重。
此外，司法解釋對原先爭議較大的“相通商標算不算侵犯商標權”有了明確說法。即只要視覺上基本無差別，足以對消費者產生誤導，這樣的相通商標將被認定為侵犯了商標權。而國家機關工作人員參與知識產權犯罪的，將受到嚴懲。(程超)
